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【資料內容】制造工藝及配方【項目數量】76項
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１   物理氣相沉積法制備黑色碳化鉻硅絕緣復合涂層的方法
制備黑色碳化鉻硅復合涂層的方法所制備而成的黑色碳化鉻硅復合涂層具有耐腐蝕性強、抗氧化性好的優點，同時其區別于常見的黑色膜層就是具有絕緣性不導電，很好的滿足產品絕緣性能要求，在３Ｃ產品中的應用具又廣泛前景。

２   在核用鋯合金基底表面制備Ｃｒ涂層的制備工藝
采用的磁控濺射技術在核用鋯合金基底上沉積強結合力、高厚度Ｃｒ涂層。

３   在球閥圓頭表面制備Ｃｒ涂層的方法
將機械拋光后的球閥圓頭拋丸除銹、超聲波清洗，然后依次表面反濺清洗、靶材預濺射，最后采用磁控濺射技術在球閥圓頭表面制備具有高耐腐蝕和耐磨損特性的Ｃｒ涂層。提高球閥圓頭耐腐蝕和耐磨損性能，該方法低污染、環境友好。

４   ＣｒＦｅ＋（Ｃｒ，Ｆｅ）Ｎ代鉻鍍層及其制備方法
比電鍍鉻（Ⅵ）鍍層硬度高，韌性好，是強韌性薄膜，內應力小，與基體結合力高。無氫脆和靶中毒問題。比Ｃｒ＋ＣｒＮ復合膜工藝窗口范圍寬，成本更低。

５   金屬表面保護層及其制備方法
 所述金屬表面保護層從內到外包括底粉層、介質粉層、ＰＶＤ金屬鍍層和透明粉層；其中，所述ＰＶＤ金屬鍍層為通過磁控真空濺射方法獲得，所述ＰＶＤ金屬鍍層至少包括采用鎳鉻合金和純鉻兩種靶材的混合鍍層。能達到電鍍的表面處理效果，也能更環保。

６   管狀鉻靶材的制備方法
所述方法包括過渡層的制備、包套的制備、包套脫氣、熱等靜壓、退火處理、機加工等步驟，通過制備得到的管狀鉻靶材沒有裂紋產生、不會發生彎曲變形、致密度＞９９％，純度高，極大的提高了產品的合格率。

７   料漿法沉積的富鉻高溫耐蝕涂層的制備
料漿法沉積的富鉻高溫耐蝕涂層及其制備方法可應用于各類碳鋼、奧氏體不銹鋼以及高溫合金等金屬部件，尤其適用于大型管道類金屬部件、異性金屬件和復雜件等，實用性強、應用范圍廣、滲鉻效率高、污染小、厚度適中、與基體冶金結合良好且不易脫落。

８   替代水電站受油器操作油管鍍鉻的材料
提供的材料看完工藝處理后，可以替代傳統鍍鉻、噴涂等工藝，使零件恢復原有尺寸形狀，并具有不低于原性能的表面特性。采用激光熔覆處理后，熔覆層具有更好的耐磨性能、耐蝕性能，同時熔覆層和基材的結合強度高，熔覆層及其界面組織致密，晶粒細小，具有優良的力學性能。

９   耐高溫抗燒蝕合金，屬于合金制備
解決目前通常采用電鍍鉻層作為速射武器、火炮身管等的耐高溫燒蝕涂層，而電鍍鉻層在鍍鉻過程中，會發生由六方晶體到立方晶體的晶型轉變，使得鉻層中充滿微裂紋，易于剝落，且需要使用有毒物質，對環境具有一定危害性的問題。涂層與合金具有極好的結合力，避免了裂痕、剝落現象等的發生。

１０適用于電真空器件的在襯底上形成氧化鉻膜的方法
該方法包括如下步驟：在襯底上形成鉻膜；在濕氫氛圍中，將形成有鉻膜的該襯底于９００～１３００℃溫度下保溫至鉻膜完全氧化成氧化鉻膜。該方法降低了在電真空器件上形成高質量的氧化鉻薄膜的工藝控制難度，從而減小了電真空器件在高梯度電場下的擊穿幾率。

１１含銀的氮化鉻基硬質納米結構復合膜及制備方法
不僅高硬度且具有優異的摩擦磨損性能；同時制法簡單，效率高。

１２由改性含鉻漿料配方獲得的獨特且改善的鉻涂層
漿料配方包括選擇的鹵化物活化劑和緩沖材料的組合，該鹵化物活化劑和緩沖材料協同地彼此相互作用以形成鉻擴散涂層，該涂層具有與由常規滲鉻方法產生的鉻擴散涂層相比較的改善的微結構。所述涂層可以受控方式精確地局部施加至各種零件上，包括具有含有復雜幾何結構的內部段的那些，而沒有掩蔽其任何部分。

１３粉末冶金高溫合金電鍍鉻的方法
有效防止在鍍鉻槽液中零件表面再次氧化和Ａｌ元素溶解的問題；大幅提高鍍層結合力。

１４火焰噴涂＋ＰＶＤ鍍膜復合涂?鍍膜層的結構及其制備方法
主要組成相有γ?Ｎｉ、Ｆｅ?Ｎｉ３、Ｎｉ２．９Ｃｒ０．７Ｆｅ０．３６、Ｃｒ２３Ｃ６、ＷＣ、Ｃｒ２Ｂ，具有良好的連接與載荷支撐作用，其界面具有一定的擴散連接作用；多弧離子鍍膜Ｂ、Ｃ在涂層基礎上形成硬度更高、耐蝕性能更好的膜層。制備工藝包括：首先用氧?乙炔火焰噴焊設備，制備出鎳基碳化鎢冶金熔合的過渡層，經過拋光、超聲去污處理后，再利用多弧離子鍍設備，依次制備出鍍鉻層和鍍氮化鉻層。

１５滲劑料漿和滲Ｃｒ涂層及其制備方法和應用與具有滲Ｃｒ涂層的零件
零件表面的滲Ｃｒ涂層為金屬元素結合，能夠確保涂層與基體緊密結合而不易脫落，進而解決了目前鍍鉻防護鍍鉻層易脫落的問題；滲Ｃｒ涂層的制備過程簡單、容易操作，所用時間短，原材料成本低并且用途廣泛，能夠用于民用產品生產。

１６活塞環表面鉻、石墨混合涂層制備方法
一定程度上提高了混合涂層的硬度，提高了其的自潤滑性，有利于降低涂層的摩擦系數、增加耐磨性，很大程度上降低了磨損率。

１７利用水等離子體氧化制備氧化鉻涂層的方法
以水等離子體為氧化介質，氧化鉻涂層在金屬基體的鍍鉻表面進行原位生長。氧化鉻涂層優選制備溫度為５００℃，優選制備時長為２ｈ，優選制備氣壓為８０Ｐａ之。通過對比空氣氧化獲得的氧化鉻涂層（ＡＯ），水蒸氣氧化獲得的氧化鉻涂層（ＷＶＯ）及水等離子體氧化獲得的氧化鉻涂層（ＷＰＯ）的表面特性及阻氫性能，表明水等離子體氧化工藝獲得的涂層質量最優，性能最佳。應用于臨氫環境的儲氫容器及核反應堆的結構部件，能夠提高其阻氫效率。

１８耐老化周期變量反應黑鉻鍍膜
增加黑鉻鍍膜厚度，改善沉積層的應力殘留，解決鍍膜噴涂透明粉時加熱、冷卻時龜裂問題；提高鍍膜與底層高光樹脂材料結合力。

１９鉻平面靶材熱等靜壓處理方法
是在高溫高壓環境下，利用陶瓷珠的熱形變較小和流動性，使得靶材工件的形變降到最低，減少側彎和形變，提高了產品的質量，減少了材料報廢，降低了生產成本。

２０碳化鉻復合鍍層及其制備方法
其中制備方法中，采用ＴｉＡｌＮ作為梯度過渡層將底層的Ｎｉ層和外層的ＣｒＣ層緊密結合。制備方法中采用ＴｉＡｌＮ作為梯度過渡層則可以在Ｎｉ層和ＣｒＣ層之間平滑過渡，使得Ｎｉ層和ＣｒＣ層結合緊密，制備的復合鍍層既具有Ｎｉ層的耐腐蝕性，又具有ＣｒＣ層的耐磨性，使用時產品質量更加穩定，且ＣｒＣ層更加健康環保。

２１在成膜時，可抑制在鉻合金靶材的表面上生成陷口，且可抑制小滴附著于被處理材的鉻合金靶材
一種鉻合金靶材，其中原子比中的組成式為Ｃｒ１００?ｘ?ｙＭ１ｘＭ２ｙ，０．１≦ｘ≦２１．０，０．１≦ｙ≦２３．０，Ｍ１為選自鈦及釩中的一種以上的元素，Ｍ２表示選自鉬、錳、硼、鎢、鈮、鉭中的一種以上的元素，剩余部包含不可避免的雜質，并且所述鉻合金靶材中，含有１０質量ｐｐｍ～１０００質量ｐｐｍ的氧作為不可避免的雜質。

２２二維硫化鉻材料的制備方法
制備方法簡單，原材料資源豐富、無毒、無害，制備過程對環境不存在不良影響，且制備的二維硫化鉻材料具有優異的光、電、磁性能。

２３固體粉末法滲鉻工藝及滲劑配方
滲劑提高工件抗氧化、耐腐蝕能力；經過滲鉻工藝制備的滲鉻層表面硬度可達到１２００～１５００ＨＶ，提高工件的耐磨性能，滲鉻工
藝流程簡便、工藝可靠、質量穩定。

２４不銹鋼鑄件鹽浴滲鉻的方法
提供的鹽浴滲鉻的處理方法，操作簡單，成本低廉，生產過程中三廢少，熔鹽的流動性好，殘留在工件表面的殘渣易于清除，并可有效的提升不銹鋼表面的硬度以及耐腐蝕性能。

２５在金屬材料表面沉積氧化鉻薄膜的方法
采用電鍍鋅的方式在金屬表面形成鋅過渡層打底，克服現有技術金屬材料與陶瓷薄膜的結合力弱、薄膜易剝落失效等弊端，且氧化鉻薄膜能夠顯著增強金屬材料的耐高溫、抗氧化性能，而且工藝簡單，綠色環保，產業化成本低，利于提高經濟和社會效益。

２６新型的不銹鋼表面鹽浴滲鉻劑及滲鉻工藝
在不銹鋼表面獲得了質量好的滲鉻層，滲層與基體可以清晰被觀察到，兩者結合較好。

２７高效、高質量鎳基高溫合金表面鹽浴滲鉻劑及其工藝
采用鹽浴法得到了一種滲速快，滲層厚且均勻，簡單易行，成本低的鎳基高溫合金表面滲鉻層。工藝是把鎳基高溫合金表面拋光、清洗后放入裝有鹽浴劑的坩堝中，在９００～９５０℃環境中，保溫４ｈ，進行滲鉻。其硬度均提高了３倍。工藝作為鎳基高溫合金表面改性的方法，提高了
材料表面硬度、延長了其使用壽命，拓寬了適用范圍，在航空航天、石油化工等領域具有更廣泛的應用前景。

２８鑲嵌結構界面α?Ｃｒ２Ｏ３涂層及其制備方法
沉積工藝穩定，不存在靶中毒問題，所沉積的涂層與基體結合牢固，具有穩定的α相結構。

２９微型蝸桿的表面鍍鉻工藝
包括如下步驟：（ａ）打磨毛刺（ｂ）清洗除油（ｃ）表面處理（ｄ）檢驗，用真空鍍鉻法增加蝸桿表面鍍鉻層致密度和穩定的化學性能，確保蝸桿表面光滑阻力小，其次鍍鉻層厚度增加，耐磨性能好，延長蝸桿的使用壽命；同時該鍍鉻方法污染小，不存在鍍鉻廢液，也不存在重金屬鉻流入環境，具有較高的經濟效益和生態效益。

３０鎳基高溫合金鍍鉻工藝
采用兩種電活化方法先陽極活化再陰極活化，有效的除掉鎳基高溫合金鍍鉻前表面生成的鈍化層及掛灰，活化鎳基高溫合金的金屬晶格，提高表面鍍鉻的結合力，方法簡單易行，污染浪費小。具體的工藝流程為化學除油→水洗→一次陽極活化→水洗→二次陰極活化→水洗→５０℃熱水洗→鍍鉻。

３１一種碳化鉻復合膜層及其制備方法
該碳化鉻復合膜層整體光澤度好，顏色非常均勻，碳化鉻復合膜層的Ｌ值減小到３０以下，色澤較黑，附著在產品表面時不容易產生異色。在中性鹽霧中９６ｈ不變色不生銹，橡皮擦耐磨實驗能夠承受３５０ｇ，５００次，耐磨性能以及耐腐蝕性能較好。

３２一種真空電弧離子鍍膜方法
該真空電弧離子鍍膜方法，不用酸堿鹽等溶液、沒有三廢排放、對環境無污染、適用范圍廣；通過對鍍膜時工藝參數的設定，使膜層與零件基體材料結合良好，提高了零件的耐磨和耐腐蝕性能；并使膜層厚度均勻，膜層之間的結合力大大提高。

３３基體表面的碳化鉻多層梯度復合涂層
與現有單層ＣｒＣ涂層相比，該多層梯度結構可以緩解涂層與基體之間組成、結構和物理性能的差異性，降低涂層應力，顯著改善涂層的摩擦磨損性能。一種采用多弧離子鍍技術，以金屬Ｃｒ為靶材，高純Ａｒ為工作氣體，Ｃ２Ｈ２和Ｎ２為反應氣體制備該碳化鉻多層梯度復合涂層的方法，通過調節各種氣體的流量可控制各層的成分與結構。

３４滲鉻劑及其滲鉻涂層的工藝
通過在現有滲鉻劑中添加耐高溫泡沫無機材料或高溫煅燒惰性填充物等相應措施，克服了傳統工藝中滲鉻劑固結、生產效率低、滲劑清理難等缺點。

３５料漿滲鉻的滲劑料漿及滲鉻層制備方法
用于提高金屬材料制件表面耐腐蝕、耐磨損、耐高溫性能的滲層的制備。冶金結合，確保涂層能與基體緊密結合而不易脫落，制備的滲鉻層的深度在０．００５～０．０２０ｍｍ，滲鉻表面呈銀灰色。

３６采用非平衡磁控濺射物理氣象沉積法
設備裝有單一金屬鉻靶材，在經過除鉻、拋光后的空速管表面沉積單層硬質鉻，ＰＶＤ鍍層厚度約為２～６μｍ。采用此發明可以獲得光亮的空速管表面鍍層，同時不會破壞內部精密元件，可以保證其使用性能。此外，ＰＶＤ鍍鉻層與空速管基體結合力良好，耐磨、耐蝕性能好。并且對環境無污染，對人體無傷害。

３７聚合物的表面處理方法
采用電弧離子鍍在聚合物基體表面沉積鉻膜層，得到的鉻膜層呈銀白色外觀，與利用電鍍工藝制得的六價鉻膜層的外觀類似，同時結合離子束轟擊聚合物表面以及利用磁控濺射沉積氮化物硬質膜層技術，大大提高了膜基結合力與膜層的耐磨防腐性能，在聚合物表面獲得具有強膜基結合力，且耐磨、耐刮擦性、耐蝕性等性能均優異的仿電鍍鉻膜層，從而實現對聚合物基材的裝飾與防護功能，是一種無廢水排放的全干式綠色表面處理方法。

３８用于超超臨界汽輪機１Ｃｒ１１ＭｏＮｉＷ１ＶＮｂＮ材質高溫快速滲鉻的滲鉻劑及其制備方法
 高溫快速滲鉻的滲鉻劑及其制備方法，特別是涉及一種用于超超臨界汽輪機１Ｃｒ１１ＭｏＮｉＷ１ＶＮｂＮ材質高溫快速滲鉻的滲鉻劑及其制備方法。解決傳統硼砂鹽浴熔鹽流動性差、腐蝕性強和殘鹽不宜清理的問題。該方法簡單、方便并且實現了在１０２５－１０３５℃溫度下快速滲鉻。

３９金屬帶（１）或薄片
該金屬帶或薄片包括由覆蓋有至少一個基于氮化鉻的涂覆層（５）的不銹鋼制成的基體（３）。該基于氮化鉻的涂覆層（５）是有紋理的。

４０獨特和改善的滲鉻方法
所述方法涉及在基底的選擇區域上形成局部化滲鉻涂層。與常規的滲鉻方法相比，鉻擴散涂層以控制方式并且另外以產生更少材料浪費和不需要掩蔽的方式局部施加至基底的選擇區域。第二涂層可以選擇性施加在所述基底的其他區域上。

４１由改性含鉻漿料配方獲得的獨特且改善的鉻涂層
漿料配方包括選擇的鹵化物活化劑和緩沖材料的組合，鹵化物活化劑和緩沖材料協同地彼此相互作用以形成鉻擴散涂層，涂層具有與由常規滲鉻方法產生的鉻擴散涂層相比較的改善的微結構。涂層可以受控方式精確地局部施加至各種零件上，包括具有含有復雜幾何結構的內部段的那些，而沒有掩蔽其任何部分。

４２改進的真空濺鍍表面處理方法
包括對待處理的工件表面進行前處理；噴ＵＶ介質漆紫外光固化或介質粉（介質漆）熱固化；真空濺鍍鉻，得到鍍鉻工件。不良率較低、成本低、環保性良好的改進的真空濺鍍表面處理方法，無需再噴清漆保護。

４３基體表面的富碳碳化鉻納米復合超硬自潤滑涂層及其制備方法
該復合涂層由硬質相多晶ＣｒＣ與潤滑相納米晶碳ｎｃ－Ｃ組成，采用多弧離子鍍技術，以金屬Ｃｒ為靶材，高純Ａｒ為工作氣體，Ｃ２Ｈ２為反應氣體制備該ｎｃ－Ｃ／ＣｒＣ復合涂層，通過控制基體負偏壓調控涂層中ＣｒＣ與碳的結晶狀態和納米團聚特征，在切削加工刀具以及其它機械運動零部件等領域具有良好的應用價值。

４４碳素鋼或合金鋁水鍍鉻與真空鍍鈦結合的方法
能夠通過在基材上水鍍鉻后形成致密的氧化鉻層后進行真空鍍鈦處理，形成仿金銅等顏色，實用方便，耐腐蝕性好。

４５氮化鉻（ＣｒＮ）涂層的制備方法
通過在電弧離子鍍膜過程中，在陰極Ｃｒ靶外側施加一個軸向磁場線圈，使其產生的軸向磁場對弧斑進行約束控制，加速弧斑運動速度，在基體表面沉積高質量ＣｒＮ涂層的目的，獲得具有較高硬度與高韌性且具有較低摩擦系數的ＣｒＮ涂層。適合各種刀具、模具及金屬零部件表面沉積ＣｒＮ涂層，以進一步提高這種工件的性能及使役壽命。

４６鎂合金電腦外殼的表面處理工藝
屬于電鍍技術領域。通過對堿洗液、酸洗液和鍍液的選擇以及含量的調整，使得鍍液性能穩定，使得制備的鍍鉻層結合力強，并且金屬涂層、鍍膜厚度均勻，耐蝕性高；通過調節選用適當配比的面漆使得噴涂后筆記本外殼達到烤漆的視覺效果，漆膜的流平好、豐滿度高，耐化學性好、硬度大。

４７基于表面塑性變形預處理滲鉻工藝工藝
制備的滲鉻層厚度達３０μｍ，而且厚度均勻，具有工藝簡便、成本低、涂層結合力強、適于批量生產等特點。

４８用于在基底上方形成氮化鉻涂層的方法
以提供氮化鉻涂布的制品，制得的氮化鉻涂布的制品每個使用含有材料層的雙層氮化鉻。具體的含有材料層的雙層氮化鉻提供具有優異的反射性和抗裂性的制品。

４９用于經歷高溫的基材的鉻基氧化保護層
涉及用于經歷高溫的基材的鉻基氧化保護層，該層包括含鉻的層體系，層體系包括功能層，該功能層具有包括交替沉積的單層Ａ和單層Ｂ的多層的層結構，其中該單層Ａ的組成不同于該單層Ｂ的組成，并且單層Ａ至少大部分包含氮化鋁鉻或最好是氮化鉻，而單層Ｂ至少大部分包含氧化鋁鉻或氧化鉻、或者最好是氮氧化鋁鉻或更優選的是氮氧化鉻。

５０鋼鐵表面雙輝滲Ｃｒ后離子注Ａｌ制備的復合涂層及其方法
復合技術的目的在于發揮兩種表面改性技術各自優勢，并互相彌補不足，即利用雙輝技術滲Ｃｒ所得涂層與基體結合力優異且合金元素呈梯度分布的優勢，并采用離子注Ａｌ技術避免雙輝技術滲Ａｌ易產生反濺射的現象，實現了合金元素能夠按照預期設計分布。在鋼鐵表面制備的高性能復合涂層，可大幅度提高材料表面強度、硬度、耐磨性、耐腐蝕性和抗高溫氧化性。

５１小軸零件鍍鉻工藝
具有設備簡單、投資少；對設備的損害小，使得使用壽命相應延長；可以避免金屆基體的晶粒粗大，鍍鉻后小軸的抗彎曲韌性可以達到４５度角而不折斷；可確保零件之間鍍鉻層的均勻性，大幅度提高了小軸的耐磨性能和耐蝕性能。

５２防污鍍鉻產品的生產方法
生產方法進行鍍鉻處理后，保證了工件表面具有一層防污層，有效的提高了工件的防污性能，提高了工件表面的光潔度，減少了現有工件在鍍鉻前鍍銅或鍍鎳的生產工藝，減少了生產成本，提高了生產效率，由于ＰＶＤ鍍鉻裝置能產生較高的等離子體密度和功率密度，通過ＰＶＤ鍍鉻裝置能使鉻和鈦均勻的分布在工件表面，提高了鉻和鈦的附著在工件上，提高了整體的硬度。

５３鉻靶材及其組合的制造方法
在對鉻粉末進行預壓成型處理后，直接對成型坯料進行真空熱壓燒結，而無需熱等靜壓處理過程。這樣縮短了鉻靶材制造時間，且無需用到熱等靜壓設備，顯著降低了鉻靶材生產成本。

５４氮化鉻穩定氧化鋯的真空鍍膜材料及其制備方法
氮化鉻穩定氧化鋯真空鍍膜材料解決傳統氧化鋯鍍膜材料鍍膜過程中的不穩定和折射率不均勻性問題，提高氧化鋯薄膜的損傷閾值。
 
５５用于聚合物型基材的基于鉻的反射涂層
其中所述涂層具有２００ｎｍ或更小的厚度，并且是鉻與摻雜材料的合金，所述摻雜材料選自六方密堆積的過渡金屬，所述合金具有主要的體心立方相與次要的Ω六方密堆積相共存的晶體結構。

５６強磁性材料濺射靶技術工藝       
其含有包含鈷；在保持高密度的同時使氧化物相的顆粒均勻地微細化且粉粒產生少的含有鉻氧化物的強磁性材料濺射靶。

５７強磁性材料濺射靶
其含有基體相和至少包含鉻氧化物的氧化物相，提供保持高密度、并且使氧化物相顆粒均勻地微細化、粉粒產生少的含有鉻氧化物的強磁性材料濺射靶。

５８鉻基鍍膜及其制備方法
其結構為Ｃｒ－Ｃｒ２Ｎ兩相化合物層，有利于鍍層內應力的釋放，從而在減小內應力的同時降低鍍層表面缺陷的產生，能夠實現大面積范圍內的
厚度均勻性。制備得到的所述鉻基鍍膜，表面缺陷少、沒有微裂紋出現，能夠實現鍍層在超大面積范圍內具有均勻的厚度，同時還具備高硬度、耐磨損、耐腐蝕的特性；可在較短時間內將金屬底材表面以及金屬底材圖紋內部的鍍層完全清除，操作簡單易行。

５９碳鋼基體表面化學氣相反應法制備碳化鉻涂層的方法
采用密閉系統下在碳鋼基體表面化學氣相反應原位形成碳化鉻反應擴散涂層，形成的涂層致密光滑均勻，涂層與基體結合良好，無需復雜的真空或氣氛爐實現高溫下避免碳鋼基體的氧化。

６０具有硬質合金、金屬陶瓷、鋼或高速鋼（ＨＳＳ）基底，并在基底上通過ＰＶＤ工藝沉積的多層涂層的切割工具
所述多層涂層包括由一個設置在另一個之上的一個或多個相同的或不同的至少包含鋁（Ａｌ）和任選地一種或多種選自Ａｌ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｙ、Ｒｕ和Ｍｏ的其它金屬的氮化物層或碳氮化物層組成的基體層，以及含鉻的氧化功能層。改進含鉻功能層的連結問題。

６１帶ＰＶＤ納米硬鉻涂層的金屬工件
包括工件本體，工件本體上鍍有ＰＶＤ納米硬鉻涂層，ＰＶＤ鍍前處理為中性水處理，對環境無污染，用水量小，符合國家減能節排的標準；ＰＶＤ納米硬鉻可改善普通金屬表面的特性，在模具上具有很實用的應用價值。

６２高致密鉻合金靶材的生產方法
能夠成功獲得成分與密度均勻、晶粒大小小于１００微米、純度大于９９．９％、相對密度大于９９％、氧含量小于１０００ｐｐｍ的高致密鉻合金靶材。此外，本發明方法生產成本低，工藝過程簡單易控。

６３鋼鐵、鋅基合金真空離子鍍鉻工藝代替現行電鍍鉻工藝
離子鍍鉻工藝代替現行電鍍裝飾鉻工藝和離子鍍超硬鉻代替電鍍硬鉻。膜層中沒有Ｎｉ元素，對人體無害；沒有三廢排放無須治理；附著性好，致密性好，耐蝕性強，硬度高耐磨性好。

６４高致密鉻靶的熱壓方法
該方法包括依次進行的：抽真空、分階段升溫升壓、保壓爐冷、熱鍛、退火、熱軋、機加工，七個步驟。通過設計合理的工藝步驟，篩選穩定的工藝參數，達到了低成本制得大型高致密鉻靶的目的。

６５等離子體鍍鉻滲氮鐵基燃料電池雙極板材料的制備方法
它涉及一種雙極板材料的制備方法。要解決現有電鍍方法不銹鋼表面鍍鉻存在疏松、穿孔的問題。導電性能好：接觸壓力為１５０Ｎ／ｃｍ２時，接觸電阻＜２０ｍΩ·ｃｍ２；耐腐蝕性能高：燃料電池運行環境下，腐蝕電位＞０．０８Ｖ，腐蝕電流＜１．８２μＡ／ｃｍ２；無疏松、穿孔；成本低。本發明主要用于制備燃料電池雙極板材料。

６６用于金屬管形零件內表面改性強化的直流電場增強粉末法滲鉻方法與裝置
  該法與現行方法相比，在７００～１０００℃范圍的不同溫度，滲速至少可提高０．５～４倍（取決于具體工藝參數）。該方法與裝置可提高金屬管形零件內表面的粉末法滲鉻的滲速、降低滲鉻溫度、提高滲鉻劑的利用率。

６７用于提高金屬零部件抗腐蝕、抗氧化及抗磨損能力的交流電場增強粉末法滲鉻的方法與裝置
其采取在粉末滲鉻劑中放置兩個平行的板狀電極，兩電極分別由耐高溫導線聯接在一個電壓在０～２５０伏范圍連續可調的５０Ｈｚ交流電源上，被處理零件位于兩電極之間，電極和零件與滲鉻劑一起密封在滲箱中，置于熱處理爐中加熱，當爐溫到設定值后，在兩極間施加適當強度交流電場，即可實現零件的快速滲鉻。

６８鑄鐵真空鍍鉻方法，屬于表面處理技術
依次包括基材表面預處理、表面噴涂、真空鍍鉻、有機涂料面涂，用這種方法得到的鑄鐵鍍鉻制品，在性能上優于傳統的電鍍鍍鉻方法，膜層鍍敷性好、致密性高，與現有電鍍法相比，工序簡單，成本低。

６９碳氮鈦鉻復合涂層表面處理高爾夫球頭的方法
它是在真空條件下，將純金屬鈦，鉻，石墨氣化然后通入氬氣、氮氣和乙炔氣體，并形成等離子體，通過合金化原理，利用物理氣相沉積的方法，在高爾夫球頭表面形成一種碳氮鈦鉻的復合涂層。處理后的高爾夫球頭具有珍珠般的亮黑色外觀，良好的耐溶劑性能、耐腐蝕性、耐沖擊性能和良好的金屬附著牢固度。完全滿足高爾夫球頭的表面質量要求。

７０關于以鉻擴散的方式生產具備耐熱、耐蝕、耐酸、耐磨性特殊鋼材時所需要的鉻擴散浸透體以及鉻擴散浸透法制作特殊鋼的生產方法
特別是為了把鋼鐵或鑄鐵做成的產品浸在以硼砂（ｂｏｒａｘ）鐵鉻合金（ｆｅ－Ｃｒ），氧化硼（ＢｘＯｙ），氧化鉻（ＣｒｘＯｘ），氯化納（ＮａＣｌ），促進劑構成的鉻擴散浸透液體里，使鉻擴散浸透到產品中，制造具備耐熱、耐蝕、耐酸、耐磨性的特殊鋼。

７１平整輥表面納米晶強化點鍍鉻毛化方法
在平整輥的表面形成納米晶強化層，并進行點鍍鉻及結合硬化處理。其采用平整輥表面納米晶強化、點鍍鉻溫噴射表面粘附和表面粘附鉻結合硬化處理三個步驟，達到特定的粗糙度、ＰＣＩ值等表面紋理要求的目的。本發明技術表面點鍍鉻與基體的結合力良好，不產生環境污染問題。

７２鉻合金靶材及具有硬質薄膜的金屬材料
具體而言涉及鉻合金靶材，由鉻及硅組成，或由鉻及鍺組成，其中鉻所占的重量百分比為５％至９５％，且當經由物理氣相濺射工藝所產生的薄膜的厚度大于或等于２微米時，上述薄膜的維氏硬度值分別為Ｈｖ８００至Ｈｖ１２００及Ｈｖ８００至Ｈｖ１０００。上述的靶材可用來產生具有硬質薄膜的金屬材料，此金屬材料包含金屬基板以及鉻硅合金薄膜，或包含金屬基板以及鉻鍺合金薄膜。

７３在正常和特定環境下具有耐腐蝕性并且鍍鉻后不需要額外處理的鍍鉻部件，以及提供此類鍍鉻部件的制造方法
鍍鉻部件１包括：基體２；亮鎳鍍層５ｂ，其形成于整個基體２上；貴電勢鎳鍍層５ａ，其形成于亮鎳鍍層５ｂ上。亮鎳鍍層５ｂ和貴電勢鎳鍍層５ａ之間的電勢差在４０ｍＶ至１５０ｍＶ的范圍內。

７４直流電場作用下低溫快速固體粉末滲鉻方法
涉及金屬表面化學熱處理技術領域。使用與現行傳統固體粉末滲鉻相同滲劑，可采用低溫加熱、短時保溫獲得與常規滲鉻同樣的滲鉻層厚度。當采用與常規滲鉻同樣的加熱溫度和保溫時間時，滲鉻層厚度可增加３－８倍，從而節約能源，降低生產成本。

７５鍍鉻薄膜
  可以改善所謂的硬度容易欠缺的氮化鉻離子鍍薄膜的特性，且在近年來柴油發動機所要求的標準越來越高的耐磨蝕性、耐燒蝕性方面優良，進而在耐欠性方面優良。

７６具有鍍鎳工序Ｓ３２、鍍鎳水洗工序Ｓ３３、鍍鉻工序Ｓ３４，鍍鉻水洗工序Ｓ３５的鍍鉻產品的制造方法
在鍍鉻層３上形成鈍態被膜９３之前的鍍鉻水洗工序Ｓ３５中，進行在工件Ｗ的外周面形成由能夠與鉻結合且含有氟的聚合物構成的防污被膜４的防污處理工序Ｓ３５。具有優秀的防污性的同時，因鏡面光澤具有優秀的裝飾性的防污鍍鉻產品。